TWINSCAN EXE:5000 von ASML - 0,55 NA und 8 nm

TWINSCAN EXE:5000 von ASML setzt auf 0,55 NA und 8 nm Auflösung. Das System arbeitet mit einer EUV-Wellenlänge von 13,5 nm und einem Dosiswert von 50 mJ/cm².TWINSCAN EXE:5000

High-NA für feinere Strukturen

Der TWINSCAN EXE:5000 ist das erste EUV-System mit 0,55 NA und damit auf kleinere Strukturen ausgelegt. Laut ASML ermöglicht die Anlage mit 8 nm Auflösung Features, die 1,7-mal kleiner sind als bei NXE-Systemen.8 nm Auflösung und 0,55 NA

Die gleiche Quelle nennt eine Dosis von 50 mJ/cm². Dazu kommen neue, größere Projektionsoptiken und schnellere Wafer- und Reticle-Stufen, damit die Anlage in der Fertigung die Taktung der Belichtung erhöhen kann.50 mJ/cm² Dosis

Einordnung zur NXE-Reihe

ASML nennt den EXE:5000 den Nachfolger mit höherer numerischer Apertur als NXE-Systeme, die bei 0,33 NA liegen. Der Vergleich zeigt vor allem den Sprung bei der Optik und bei der kleineren Abbildungsgröße.Vergleich mit 0,33 NA

Deutschland und Ansprechpartner

Für Deutschland nennt ASML Berlin GmbH in Berlin ein Impressum mit Waldkraiburger Straße 5, 12347 Berlin. Die europäische Präsenz des Unternehmens ist damit auch in Deutschland klar verankert.ASML Berlin GmbH in Berlin

Fazit

Der TWINSCAN EXE:5000 ist ein High-NA-EUV-System für fortgeschrittene Halbleiterfertigung. Die belegten Werte 0,55 NA, 13,5 nm, 8 nm und 50 mJ/cm² machen die technische Ausrichtung sehr konkret und heben das System klar von älteren NXE-Anlagen ab.